- 詳細介紹
AS600DMTXB型PVD離子鍍膜設備可以用于沉積DLC類金剛石涂層以及常規(guī)的硬質涂層，技術規(guī)格如下：
| 真空室尺寸 | Ø1000mm * H1000mm |
| 均勻可鍍區(qū) | Ø600mm * H600mm |
| 極限真空度 | 3.0*E-4Pa |
| 壓升率 | 0.2Pa/hr |
| 冷卻水 | 6ton/hr |
| 占據(jù)空間 | 4.5*4.0*3.5 |
| 抽氣系統(tǒng) | 粗抽泵+羅茨泵+分子泵+前級泵 |
| 真空檢測 | 復合真空計+薄膜真空規(guī) |
| 工藝氣體MFC | 4路 |
| 轉架 | 可移出式下轉架（4軸、5軸、6軸、8軸任選） |
| 4G-CAE®電弧 | 最多9套（3列*3套/列） |
| 磁控濺射 | 最多6套（平面靶或柱狀靶） |
| GIS氣體離子源 | 1套 |
| 偏壓電源 | 1套 |
| Smart智能源擋板 | 1套，實現(xiàn)鍍膜前的靶材預清洗 |
| 加熱系統(tǒng) | 500度，3根熱電偶監(jiān)測 |
| 冷卻水循環(huán)系統(tǒng) | 配日本SMC水流開關，智能控制 |
| 電氣元件 | 日本歐姆龍PLC、端子、施耐德等空開、接觸器 |
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