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離子氣相沉積鋁
發(fā)布時間：2017-08-07
離子氣相沉積(IVD)和通常的真空鍍膜是相同的,其共同點是使金屬燕發(fā),讓它凝在待鍍件的表面，鋁離子氣相沉積在精致件上鍍裝飾鋁,其鍍層較厚,較致密，并有較大的附著力。這種鍍是在鍍件和蒸發(fā)源之間,加以高的負電位而獲得的。把情性氣體引入真空系統(tǒng)并離子化，帶正電荷的離子,被吸引到帶負電荷的另件表面上。它們轟擊另件表面,使表面清潔,能夠得到較好的附著力。
接著輝光放電靜化后,繼以鋁的蒸發(fā)。當它通過輝光放電區(qū)時,它一部份就離子化了,使其加速到達另件。離子化提供了較好的分散能力,可使復雜形狀的工件得到均勻的鍍層。連續(xù)把U型鋁線饋送到蒸發(fā)源處,就可以獲得較厚的鍍層。
離子氣相沉積能代替電鍍鎘和真空沉積鎘以及鎳一鎘擴散層。為了節(jié)約,可以在低合金鋼上鍍鋁來代替不銹鋼。鍍層不會產(chǎn)生氫脆,摩擦系數(shù)高于鍍鎘。鍍層顯示的性能與純鋁相同,它與鋁結構有相溶性,并減少了鋁與不同金屬(如鋼)結合時的腐蝕問題。在溫度超過800F時也可以用,不會降低基體的機械性能,此外這種鍍復方法不會造成環(huán)境污染。
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